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电子束光刻中的相互邻近效应校正技术研究
赵真玉1,2，宋会英1
A Study of the Mutual Proximity Effect  Correction in ElectronBeam Lithograph
ZHAO Zhenyu1,2,SONG Huiying1
计算机工程与科学 . 2011, (7): 118 -122 . 

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